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- E2M系列雙級旋片泵
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- ES系列單級旋片泵
- nXDS系列干式渦旋泵
- nXLi系列干式真空泵
- EDC系列爪式真空泵
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- EH系列羅茨真空泵
- EDS系列干式螺桿泵
- GXS系列干式螺桿泵
- GV系列爪式真空泵
- T-Station渦輪分子泵小車
- STP系列渦輪分子泵
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- Stokes 6羅茨泵
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- nEXT系列渦輪分子泵
- EDP系列化工爪式干泵
- CXS系列化工螺桿真空泵
- CDX系列化工螺桿真空泵
- HT系列油蒸汽擴(kuò)散泵
- iH系列半導(dǎo)體真空干泵
- iXH系列半導(dǎo)體真空泵
- iXL系列半導(dǎo)體真空干泵
- EPX系列半導(dǎo)體真空干泵
- GX系列半導(dǎo)體干式泵
Edwards STPA2203C 是為半導(dǎo)體應(yīng)用而設(shè)計的渦輪分子泵。它使用的轉(zhuǎn)子,可實(shí)現(xiàn)的性能,大的制程靈活性。全新的半機(jī)架控制器能夠節(jié)省更多空間,而且采用直流驅(qū)動,無需電池即可運(yùn)行。STPA2203C 已經(jīng)由半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型刻蝕、離子注入和沉積設(shè)備制造商投入使用,并得到了。
應(yīng)用
金屬(鋁)、鎢和電介質(zhì)(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源,射束線泵送端點(diǎn)站
MBE
擴(kuò)散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負(fù)載鎖真空腔
科學(xué)儀器:表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理:射束線、加速器
放射線應(yīng)用:融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉(zhuǎn)子設(shè)計
更高的氣體吞吐量
大的制程靈活性
5 軸磁懸浮系統(tǒng)
無污染
少維護(hù)
防腐蝕
可用于嚴(yán)苛制程
使用壽命延長
緊湊型設(shè)計
占地面積小
半機(jī)架控制器
的控制器設(shè)計
自動調(diào)整
自行診斷功能
直流電機(jī)驅(qū)動
無電池運(yùn)行
數(shù)據(jù)
入口法蘭
ISO250F
KF40
吹掃口
KF10
水冷卻接頭
PT1/4
抽速
N2
2200 ls-1
H2
1700 ls-1
壓縮比
N2
>108
H2
>2.5 x 104
極限壓力
10-6 Pa
(10-8 Torr)
允許的大前級壓力
400 Pa
(3 Torr)
大氮?dú)馔掏铝?/span>
1500 sccm
額定速度
27000 rpm
啟動時間
7 分鐘
固定位置
任意
水冷卻流量
2 lmin-1
水冷卻溫度
5-25 °C
壓力
0.3 MPa
的吹掃氣體流量
20 sccm
輸入電壓
200 至 240 (± 10) V 交流
功耗
1.5 kVA
泵重量
61 kg
控制器重量
12 kg